二硅化钽 (TaSi?)是一种高温合金材料,具有高熔点(2200°C)、高硬度及优异耐腐蚀性,广泛应用于半导体制造 、 能源工业 等领域。
用于 超音速飞行器 前缘鼻锥、机翼的涂层材料,可承受ΔT>1500℃的热震循环(>100次),并应用于 超燃冲压发动机 内衬的梯度层,提升耐热性能。
作为 DRAM存储栅极 和 3D芯片 的 TSV屏障层 材料,其高温稳定性可满足芯片制造中的 工艺条件。
用于 涡喷叶片 的 热障涂层 ,以及 偏滤器装甲 ,在高温环境下保持结构稳定。
作为 精细陶瓷原料粉 ,用于 电接触器 和 半导体设备 ,其高纯度(如0.9999纯度)产品适用于精密制造。