二硅化铬（CrSi?）主要应用于陶瓷材料和高电阻薄膜材料的制备，其独特性能使其在特定领域展现出显著优势。 

陶瓷材料

二硅化铬粉体可促进聚碳硅烷（PCS）的裂解反应，显著提升陶瓷产率，同时降低裂解过程中的线性收缩率，进而改善陶瓷材料的性能。该技术广泛应用于碳化硅陶瓷的制备，通过优化工艺参数实现高性能陶瓷的规模化生产。

高电阻薄膜

硅化铬薄膜具有高电阻率和低电阻温度系数特性，在电子器件中常用于需要稳定电阻性能的场景，如高温环境下的传感器或电路元件。