硅化镍 （ NiSi ）的应用主要集中在催化合成、 半导体 制造、 能源储存 及 环境修复 等领域：

催化合成

硅化镍在催化领域表现突出，例如在芳香胺的合成中，其可实现硝基苯与苯甲醛的“一锅法”还原偶联，转化率超过99%，同时具有高选择性（约92%）。该催化剂通过热解法制备，具有操作安全、产物化学计量比可调等优势，相关研究发表于 《Inorg. Chem. Front.》 （2020年）。

半导体制造

在 集成电路 芯片制造中，硅化镍（ NiSi ）工艺因退火温度低（通常低于600℃）成为 65nm/45nm 及以下节点的关键材料。其工艺可抑制离子扩散，降低对浅结器件的破坏，有效控制接触电阻。

能源储存

硅化镍作为负极材料应用于电池领域，通过复合纳米碳材料可减少体积膨胀，提升循环稳定性。实验室数据显示，反复充放电上千次后电量仅衰减35%，预计五年内技术迭代将提升性价比。

环境修复

中空磁性掺硅镍基材料对重金属离子吸附表现出偏好性，例如铅富集系数达4.8，钴富集系数3.2，在电解铜厂废水处理中实现重金属脱除率稳定98%，环保监测合格期缩短1/3。

工业应用

硅化镍还用于精密合金镀层，如高温切削刀具的氮化钛镀层中，其性能提升刀具耐用度8倍；在光通信模块制造中，复合基板抗热冲击性测试远超传统材料，已获两项美国专利。